वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन क्षारीय नक़्क़ाशी

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वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन क्षारीय नक़्क़ाशी
  • RISE
  • लिओनिंग, चीन
  • 3 दिन
  • 50 मीटर/माह

* एकसमान पिरामिड संरचनाएं बनाता है, जिससे प्रकाश ग्रहण क्षमता 5% बढ़ जाती है।
* नियंत्रित नक़्क़ाशी दर से अधिक/कम नक़्क़ाशी से बचा जा सकता है।
* अल्ट्रा-शुद्ध फार्मूला सोडियम/लोहे के संदूषण को न्यूनतम करता है।
* पीईआरसी, टॉपकॉन और अन्य उच्च दक्षता कोशिकाओं के साथ संगत।
* फास्फोरस और नाइट्रोजन मुक्त, पर्यावरण अनुकूल।

वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन क्षारीय नक़्क़ाशी


उत्पाद

परिचय

वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन अल्कलाइन एचिंग एक योजक है जिसका उपयोग फोटोवोल्टिक सिलिकॉन वेफर्स की क्षारीय पॉलिशिंग प्रक्रिया में किया जाता है। वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन अल्कलाइन एचिंग में मुख्य रूप से सर्फेक्टेंट, पॉलिशिंग उत्प्रेरक और सिलिकॉन प्रोटेक्टेंट होते हैं।

सिलिकॉन वेफ़र्स की क्षारीय पॉलिशिंग प्रक्रिया के दौरान, वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन क्षारीय एचिंग, वेफ़र की सतह से अकार्बनिक पदार्थों और अवशिष्ट उपोत्पादों को हटाकर, सतह की गीलापन क्षमता को बढ़ाता है। यह क्षारीय विलयन और वेफ़र की सतह के बीच बंधन को तेज़ करता है, विलयन और वेफ़र के बीच अंतरापृष्ठीय ऊर्जा को कम करता है, वेफ़र के प्रति क्षारीय विलयन की चयनात्मकता को बढ़ाता है, और पॉलिशिंग के बाद परावर्तकता में सुधार करता है।


उत्पाद सीविशेषताएँ

  • मजबूत सफाई शक्ति: शक्तिशाली दाग ​​हटाने की क्षमता रखता है, सिलिकॉन वेफर्स पर क्लीनर क्षार पॉलिशिंग परिणाम प्रदान करता है।

  • समतल एवं एकसमान आधार: क्षार पॉलिशिंग के बाद निर्बाध आधार एकीकरण और उथले खांचे की गहराई के साथ चिकनी सतह प्राप्त होती है।

  • लागत में कमी: प्रक्रिया स्थिरता और नियंत्रणीयता क्षार पॉलिशिंग के बाद सफाई सांद्रता को कम करने में सक्षम बनाती है।

  • उच्च संगतता: मौजूदा क्षार पॉलिशिंग उपकरण और प्रक्रियाओं के साथ संगत।

  • सुरक्षित और पर्यावरण अनुकूल: कोई दहन या विस्फोट का खतरा नहीं, गैर विषैला, और किसी विशेष सुरक्षात्मक उपाय की आवश्यकता नहीं।


उत्पाद पैरामीटर


प्रोडक्ट का नाम

क्षारीय नक़्क़ाशी/ वेफर नक़्क़ाशी समाधान/ क्षारीय बनावट योजक

उपस्थितिहल्के पीले रंग का पारदर्शी तरल
सापेक्ष घनत्व1.00-1.09
गंधलगभग गंधहीन
पीएच मान (अशुद्ध विलयन)11.00-14.00
कार्यान्वयन मानकक्यू/एसडीवीएस 010


 उत्पाद व्यवहार्यता

सिलिकॉन वेफ़र्स की क्षारीय पॉलिशिंग प्रक्रिया के दौरान, वीएस0014 मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन क्षारीय एचिंग, वेफ़र की सतह से अकार्बनिक पदार्थों और अवशिष्ट उपोत्पादों को हटाकर, सतह की गीलापन क्षमता को बढ़ाता है। यह क्षारीय विलयन और वेफ़र की सतह के बीच बंधन को तेज़ करता है, विलयन और वेफ़र के बीच अंतरापृष्ठीय ऊर्जा को कम करता है, वेफ़र के प्रति क्षारीय विलयन की चयनात्मकता को बढ़ाता है, और पॉलिशिंग के बाद परावर्तकता में सुधार करता है।


पैकेजिंग

पैकेजिंग विनिर्देश: 10 लीटर प्रति ड्रम

शेल्फ जीवन:ठंडे, हवादार गोदाम में सीलबंद करके रखने पर यह छह महीने तक चल सकता है।


हमारे बारे में

Alkaline Etching

राइज चेलिकम लाओस उत्पादन आधार साई सेर्ता व्यापक विकास क्षेत्र, वियनतियाने, लाओस में स्थित है, जिसका निर्माण क्षेत्र 30,000 वर्ग मीटर है, यह गीले इलेक्ट्रॉनिक रसायनों और औद्योगिक और वाणिज्यिक विशेष रसायनों का एक व्यापक समाधान प्रदाता है, जो दक्षिण पूर्व एशिया में सेवा देने में विशेषज्ञता रखता है।

लाओस संयंत्र उन्नत उत्पादन उपकरण और स्वचालित नियंत्रण प्रणाली से सुसज्जित है, जिसकी वार्षिक उत्पादन क्षमता 100,000 टन है। लाओस उत्पादन आधार उन्नत शुद्धिकरण प्रौद्योगिकी और पेटेंट फॉर्मूलेशन प्रौद्योगिकी को अपनाता है, जो उत्पादों की उच्च दक्षता और स्थिरता के लिए एक मजबूत गारंटी प्रदान करता है। 

Wafer etching solution


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हाँ! हम पेशेवर आर एंड डी और 2004 के बाद से defoamer के निर्माता के साथ प्रत्यक्ष कारखाने हैं।...more
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